Недавно в России начался выпуск литографов с технологическим процессом 350 нм, а теперь отечественные эксперты с помощью белорусских коллег разработали опытный образец установки, которая производит полупроводниковую продукцию по нормам 130 нм. Об этом сообщил первый вице-премьер России Денис Мантуров на форуме «Микроэлектроника 2026».
Одной из значимых разработок в этом проекте стал отечественный эксимерный лазер, созданный специально для литографа с нормой 130 нм. Мантуров подчеркнул, что теперь Россия входит в число стран, обладающих такой технологической базой. Глава Минпромторга Антон Алиханов добавил, что приемочные испытания данного оборудования планируются на осень 2026 года.
В России также активно развивают электронно-лучевую литографию, необходимую для создания фотошаблонов, используемых в производстве микрочипов. В Зеленограде завершается строительство научно-технологического центра, где планируется организовать выпуск таких изделий, а в будущем предусмотрен поэтапный переход на более тонкие технологические нормы, вплоть до 28 нм.
