В декабре 2026 года планируется поставка первой российской литографической установки, предназначенной для производства чипов с разрешением 350 нм. Заказчиком первой установки станет компания «Маппер», входящая в холдинг «Швабе», а вторая будет передана фирме «Отраслевые решения» из группы компаний «Элемент».
Литограф был разработан в сотрудничестве Зеленоградского нанотехнологического центра и белорусской компании «Планар». Устройства, произведенные с использованием технологии 350 нм, применяются в силовой и автомобильной электронике, а также в различных областях промышленности.
Установка рассчитана на работу с пластинами диаметром до 200 мм. По своим характеристикам, российский литограф способен обрабатывать до 63 пластин размером 150 мм или 43 пластины размером 200 мм в час.
Базовая версия литографа обойдется в 392 миллиона рублей без НДС, а модификация с расширенными функциями и пятилетней гарантией будет стоить 561 миллион рублей. Это на 60% дешевле зарубежных аналогов. Производство одной установки занимает около 18 месяцев с момента получения 50% предоплаты.
Работы по разработке литографов в России продолжатся. Следующим шагом станет создание серийного литографа под технологию 130 нм, который также разрабатывается совместно с «Планаром» в ЗНТЦ. Прототип этой установки был представлен в августе 2026 года, а затраты на опытно-конструкторские работы составляют 5,7 миллиарда рублей. Запуск серийного производства 130-нанометровых литографов запланирован на 2027 год.
